商品

フィルター

並び替え:

1910 製品

P00900 - SEMI P9 - マイクロエレクトロニクス用レジスト的な機能テスト(ガイドライン)
P01000 - SEMI P10 - フォトマスク注文のデータ構造の仕様
SEMI P10 - フォトマスク注文のデータ構造の仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
P01000 - SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様
SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
P01100 - SEMI P11 - アルカリ現像液の完全な正規性を判定するための試験方法
SEMI P11 - アルカリ現像液の完全な正規性を判定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
P01100 - SEMI P11 - アルカリ揮発性溶液に対する全規定度の測定のテスト方法
SEMI P11 - アルカリ揮発性溶液に対する全規定度の測定のテスト方法 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
P01200 - SEMI P12 - 誘導結合プラズマ発光分光法 (ICP) によるポジ型フォトレジスト中の鉄、亜鉛、カルシウム、マグネシウム、銅、ホウ素、アルミニウム、クロム、マンガン、ニッケルの定量
P01200 - SEMI P12 - 誘導結合プラズマ発光分光法(ICP)によるポジティブ・フォトレジスト中の鉄、亜鉛、カルシウム、マグネシウム、銅、ホウ素、アルミニウム、クロム、マンガン、及びニッケルの測定
P01300 - SEMI P13 - 原子吸光分光法によるポジ型フォトレジスト中のナトリウムとカリウムの測定
P01300 - SEMI P13 - 吸原子光分光法によるポジティブフォトレジスト中における最大とカリウムの測定
P01400 - SEMI P14 - グラファイト炉原子吸光分光法によるポジ型フォトレジスト中のスズの測定
P01400 - SEMI P14 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト中の錫の測定
P01500 - SEMI P15 - 原子吸光分光法によるポジ型フォトレジスト金属イオンフリー (MIF) 現像液中のナトリウムとカリウムの定量
P01500 - SEMI P15 - 原子光分光法によるポジティブフォトレジスト・金属イオンフリー(MIF)漸減液中の吸湿とカリウムの測定
P01600 - SEMI P16 - グラファイト炉原子吸光分光法によるポジ型フォトレジスト金属イオンフリー (MIF) 現像液中のスズの定量
P01600 - SEMI P16 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・金属イオンフリー(MIF)留保液中の錫の測定
P01700 - SEMI P17 - 誘導結合プラズマ発光分光法 (ICP) によるポジ型フォトレジスト金属イオンフリー (MIF) 現像液中の鉄、亜鉛、カルシウム、マグネシウム、銅、ホウ素、アルミニウム、クロム、マンガン、ニッケルの定量
P01700 - SEMI P17 - 誘導結合プラズマ発光分光法(ICP)によるポジティブ・フォトレジスト・金属イオンフリー(MIF)における鉄、亜鉛、カルシウム、マグネシウム、銅、ホウ素、アルミニウム、クロム、マンガン、およびニッケルの測定
P01800 - SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ機能の仕様
SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ機能の仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
P01800 - SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ能力
SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ能力 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
P01900 - SEMI P19 - 集積回路製造用の計測パターンセルの仕様
SEMI P19 - 集積回路製造用の計測パターンセルの仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
P01900 - SEMI P19 - 蓄積回路製造用メトロロジパターンセル
SEMI P19 - 蓄積回路製造用メトロロジパターンセル セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
P02000 - SEMI P20 - EBレジストパラメーターのカタログ公開のガイドライン(提案)
P02000 - SEMI P20 - EBレジストパラメータのカタログ掲載に関するガイドライン(案)
P02100 - SEMI P21 - マスク描画装置の精度および精度表現に関するガイドライン
SEMI P21 - マスク描画装置の精度および精度表現に関するガイドライン セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900