SEMI P20 - EBレジストパラメーターのカタログ公開のガイドライン（提案） -

Abstract

注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本ガイドラインは、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は2003年4月28日Japanese Regional Standard Committeeにて承認されている。 ， 2003年6月にwww.semi.orgで入手可能となり， 2003年7月発行に至る。初版は1992年発行。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

このガイドラインの目的は、EB レジストパラメータの公表のための基本を規定することである。 それはレジスト処理パラメータを評価ガイドとしても使用することができる。意図されたものである。

EBレジスト公表用パラメータを下記に述べます。

なし。

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