SEMI P9 - マイクロエレクトロニクス用レジスト的な機能テスト（ガイドライン） -

Abstract

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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

このガイドラインの目的は、液体で変化されるレジスト、レジスト耐性液、及びマイクロエレクトロニクス用デバイスのためのリンスを機能的にテストするのに必要なテスト手順の基礎的なプログラムを規定することである。さらにそのようなシステムに対するプロセス修正を評価するためのガイドとしても使用できる。 このガイドラインは、フォト、DUV、X線、及び電子ビームプロセスに使用しようとするものである。

本書に示されている情報の発表は、SEMIレジスト委員会によって1987年5月に承認された。この委員会は、ガイドラインを完了させ、正しく改訂する予定であり、コメントを歓迎している。

実質的には、全てのリソグラフプロセスは、同じタイプのレジストに対してさえも、場所によって変わってくる。それ故、変えられるが、プロセスの優先を制御できるテストプログラムと方法を規定するが本ガイドラインのガイドラインである。テストは，その機能の特性が既知でありかつ特性化されている、あるいは内部の標準製品を基準として実施されるべきである。されるべきであり、異なる製品は異なる条件のもとで評価することができるということがわかっている。レジストタイプに特定され、適用できる場合のみ使用されるべきであるということも理解されるべきである。な機能的なテストの前に全ての関連のある化学的及び物理的テストをパスするものとされている。

なし。

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