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SEMI P20 - EBレジストパラメータのカタログ掲載に関するガイドライン（案） -
Volume(s):
Microlithography
Language:
English
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
このガイドラインは世界マイクロパターニング委員会によって技術的に承認されており、日本のマイクロパターニング委員会が直接責任を負っています。最新版は、2003 年 4 月 28 日に日本の地域標準委員会によって承認されました。最初は 2003 年 6 月に www.semi.org で入手可能でした。 2003 年 7 月に出版予定。初版は 1992 年に出版されました。
注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。
このガイドラインの目的は、EB レジスト パラメータの出版物のベースラインを提供することです。レジストプロセスパラメータを評価するためのガイドとしても使用できます。このガイドラインは、電子ビームプロセスに適用することを目的としています。
EB レジストのパブリケーションのパラメーターについては、以下で説明します。
参照されるSEMI規格なし。
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