SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様 -

Abstract

本標準は、global Micropatterning Committee で技術的に承認されている。現版は2008年5月13日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 ，そして2008年7月にCD-ROM で入手可能となりました。 初版は1990年発行、前版は2007年7 月に発行されました。

このデータ構造仕様は，ソフトウェアシステム間でのマスクオーダーデータの転送を促進し，次のものを可能にする：

·マスクユーザーによる自動的なオーダー入力，そしてマスク業者によるそのオーダーの自動的な処理。

·マスクショップによる実際のマスク結果と品質データの自動的なオーダー，そしてマスクユーザによるそのデータの自動処理。

この標準化されたデータ構造を用いてマスクユーザまたはマスク業者のどちらかに対して、それぞれ独立して書かれたソフトウェアを他のグループによって書かれたソフトウェアと確実に通信できるようにすべきである。

SEMI P1 — 硬質表面フォトマスク基板の仕様
SEMI P2 — 硬質表面フォトマスク用クロム薄膜の仕様
SEMI P4 — 円形石英フォトマスク基板の仕様
SEMI P5 — ペリクルの仕様
SEMI P6 — フォトマスクのレジストレーションマークの仕様
SEMI P21 — マスク描画装置の精度と精度の表現に関するガイドライン
SEMI P22 — フォトマスクの欠陥分類とサイズ定義のガイドライン
SEMI P24 — CD 計測手順
SEMI P29 — ハーフトーン/減衰位相シフトマスクおよびマスクブランクに特有の特性の説明に関するガイドライン
SEMI P35 — マイクロリソグラフィー計測の用語
SEMI P37 — 極端紫外線リソグラフィーマスク基板の仕様
SEMI P38 — 極端紫外線リソグラフィーマスクブランク上の吸収膜スタックおよび多層の仕様
SEMI P39 — Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) の仕様
SEMI P43 — フォトマスク認定用語

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