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MF172700 - SEMI MF1727 - 研磨シリコンウェーハの酸化誘発欠陥の検出の実践
SEMI MF1727 - 研磨シリコンウェーハの酸化誘発欠陥の検出の実践 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF176300 - SEMI MF1763 - 直線偏光子のコントラストを測定するための試験方法
SEMI MF1763 - 直線偏光子のコントラストを測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF177100 - SEMI MF1771 - 電圧ランプ技術によるゲート酸化膜の完全性を評価するための試験方法
SEMI MF1771 - 電圧ランプ技術によるゲート酸化膜の完全性を評価するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF180900 - SEMI MF1809 - シリコンの構造欠陥を描写するためのエッチング溶液の選択と使用に関するガイド
SEMI MF1809 - シリコンの構造欠陥を描写するためのエッチング溶液の選択と使用に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF181000 - SEMI MF1810 - シリコンウェーハの優先的にエッチングまたは装飾された表面欠陥を数える試験方法
SEMI MF1810 - シリコンウェーハの優先的にエッチングまたは装飾された表面欠陥を数える試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF181100 - SEMI MF1811 - 表面プロファイルデータからパワースペクトル密度関数および関連仕上げパラメータを推定するためのガイド
SEMI MF1811 - 表面プロファイルデータからパワースペクトル密度関数および関連仕上げパラメータを推定するためのガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF198200 - SEMI MF1982 - 昇温脱離ガスクロマトグラフィーによるシリコンウェーハ表面の有機汚染物質の分析試験方法
SEMI MF1982 - 昇温脱離ガスクロマトグラフィーによるシリコンウェーハ表面の有機汚染物質の分析試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF207400 - SEMI MF2074 - シリコンおよびその他の半導体ウェーハの直径測定ガイド
SEMI MF2074 - シリコンおよびその他の半導体ウェーハの直径測定ガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF213900 - SEMI MF2139 - 二次イオン質量分析によるシリコン基板の窒素濃度測定の試験方法
SEMI MF2139 - 二次イオン質量分析によるシリコン基板の窒素濃度測定の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF216600 - SEMI MF2166 - 特別なリファレンスウェーハを使用した非接触誘電特性評価システムのモニタリングの実践
SEMI MF2166 - 特別なリファレンスウェーハを使用した非接触誘電特性評価システムのモニタリングの実践 セール価格Member Price: ¥113
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マイクロチップとソーラーチップ
マイクロチップとソーラーチップ セール価格Member Price:
Non-Member Price: ¥4,000
MS00100 - SEMI MS1 - ウェハ間接合アライメントターゲットの指定ガイド
SEMI MS1 - ウェハ間接合アライメントターゲットの指定ガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MS00200 - SEMI MS2 - 薄膜の段差測定の試験方法
SEMI MS2 - 薄膜の段差測定の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MS00300 - SEMI MS3 - MEMS テクノロジーの用語
SEMI MS3 - MEMS テクノロジーの用語 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MS00400 - SEMI MS4 - 共鳴ビームの周波数に基づく薄い反射膜のヤング率測定の試験方法
SEMI MS4 - 共鳴ビームの周波数に基づく薄い反射膜のヤング率測定の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MS00500 - SEMI MS5 - マイクロシェブロン試験構造を使用したウェーハ接着強度測定の試験方法
SEMI MS5 - マイクロシェブロン試験構造を使用したウェーハ接着強度測定の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MS00600 - SEMI MS6 - マイクロ流体システムを接続するための設計と材料のガイド
SEMI MS6 - マイクロ流体システムを接続するための設計と材料のガイド 通常価格¥49,500 JPY セール価格¥31,900 JPY
MS00700 - SEMI MS7 - 電子デバイスパッケージへのマイクロ流体インターフェースの仕様
SEMI MS7 - 電子デバイスパッケージへのマイクロ流体インターフェースの仕様 通常価格¥49,500 JPY セール価格¥31,900 JPY
MS00800 - SEMI MS8 - 微小電気機械システム (MEMS) パッケージの気密性評価ガイド
SEMI MS8 - 微小電気機械システム (MEMS) パッケージの気密性評価ガイド 通常価格¥49,500 JPY セール価格¥31,900 JPY
MS00900 - SEMI MS9 - マイクロ流体デバイス間の高密度永久接続の仕様
SEMI MS9 - マイクロ流体デバイス間の高密度永久接続の仕様 通常価格¥49,500 JPY セール価格¥31,900 JPY
MS01000 - SEMI MS10 - MEMS 包装材料を通る液体の浸透を測定する試験方法
SEMI MS10 - MEMS 包装材料を通る液体の浸透を測定する試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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MS01100 - SEMI MS11 - マイクロ流体ポートおよびピッチ寸法の仕様
SEMI MS11 - マイクロ流体ポートおよびピッチ寸法の仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MS01200 - SEMI MS12 - MEMS デバイスの製造に使用されるシリコン基板の仕様
SEMI MS12 - MEMS デバイスの製造に使用されるシリコン基板の仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MS01300 - SEMI MS13 - ディープ反応性イオン エッチング (DRIE) プロセスの特性評価のためのテスト パターンの使用に関するガイド
SEMI MS13 - ディープ反応性イオン エッチング (DRIE) プロセスの特性評価のためのテスト パターンの使用に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
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