SEMI P10 - フォトマスク注文のデータ構造の仕様 -

Abstract

この規格は、世界的なマイクロパターニング技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2012 年 8 月 30 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2012 年 11 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 1990 年に出版されました。以前は 2009 年 7 月に出版されました。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

これらのデータ構造仕様は、ソフトウェア システム間でのマスク注文データの送信を容易にして、次のことを可能にすることを目的としています。

• マスク顧客による自動注文、およびマスクショップによるそのような注文の自動処理を可能にする、および
• マスクショップによる実際のマスク結果と認定データの自動配信と、マスク顧客によるそのようなデータの自動処理を可能にします。

これらの標準化された構造を使用することで、マスク顧客またはマスク販売店向けに独立して作成されたソフトウェアは、他の当事者によって作成されたソフトウェアと明確に通信できるようになります。

この構造は、送信されるファイルのデータ形式のみを定義します。この標準では、特定のデータベースやプログラミング言語は指定されていません。ただし、拡張マークアップ言語 (XML) 形式での承認された実装は、それを使用することを選択したユーザーのために SEMI P10 Web サイトに掲載されます。データファイルはUTF-8ファイルとして送信されます。そのため、SECS-II 規格と互換性があります。

SEMI P1 — 硬質表面フォトマスク基板の仕様
SEMI P2 — 硬質表面フォトマスク用クロム薄膜の仕様
SEMI P4 — 円形石英フォトマスク基板の仕様
SEMI P5 — ペリクルの仕様
SEMI P6 — フォトマスクのレジストレーションマークの仕様
SEMI P21 — マスク描画装置の精度と精度の表現に関するガイドライン
SEMI P22 — フォトマスクの欠陥分類とサイズ定義のガイドライン
SEMI P24 — CD 計測手順
SEMI P29 — ハーフトーン/減衰位相シフトマスクおよびマスクブランクに特有の特性の説明に関するガイドライン
SEMI P35 — マイクロリソグラフィー計測の用語
SEMI P37 — 極端紫外線リソグラフィーマスク基板の仕様
SEMI P38 — 極端紫外線リソグラフィーマスクブランク上の吸収膜スタックおよび多層の仕様
SEMI P39 — Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) の仕様
SEMI P43 — フォトマスク認定用語

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