SEMI Standards

SEMI Standards are voluntary technical agreements for the semiconductor, flat panel display, micro-electromechanical systems, photovoltaic, and high-brightness LED industries.

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MF123900 - SEMI MF1239 - 格子間酸素還元の測定によるシリコンウェーハの酸素析出特性の試験方法
SEMI MF1239 - 格子間酸素還元の測定によるシリコンウェーハの酸素析出特性の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF052300 - SEMI MF523 - 研磨されたシリコンウェーハ表面の肉眼による検査の実践
SEMI MF523 - 研磨されたシリコンウェーハ表面の肉眼による検査の実践 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量、ROA を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法
SEMI M77 - ロールオフ量、ROA を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF002600 - SEMI MF26 - 半導体単結晶の配向を決定するための試験方法
SEMI MF26 - 半導体単結晶の配向を決定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M08600 - SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様
SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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F04000 - SEMI F40 - 化学試験用の液体化学物質分配コンポーネントとニートポリマーの準備の実践
SEMI F40 - 化学試験用の液体化学物質分配コンポーネントとニートポリマーの準備の実践 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
F06400 - SEMI F64 - マスフローコントローラーの表示流量および実際の流量に対する圧力の影響を測定するための試験方法
SEMI F64 - マスフローコントローラーの表示流量および実際の流量に対する圧力の影響を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF057600 - SEMI MF576 - エリプソメトリーによるシリコン基板上の絶縁体の厚さと屈折率の測定のための試験方法
SEMI MF576 - エリプソメトリーによるシリコン基板上の絶縁体の厚さと屈折率の測定のための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
F06300 - SEMI F63 - 半導体プロセスで使用される超純水のガイド
SEMI F63 - 半導体プロセスで使用される超純水のガイド セール価格Member Price: ¥252
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MF053300 - SEMI MF533 - シリコンウェーハの厚さと厚さのばらつきの試験方法
SEMI MF533 - シリコンウェーハの厚さと厚さのばらつきの試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF145100 - SEMI MF1451 - 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハのソリ測定試験方法
SEMI MF1451 - 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハのソリ測定試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M01000 - SEMI M10 - ガリウムヒ素ウェーハに見られる構造と特徴の識別のための用語
SEMI M10 - ガリウムヒ素ウェーハに見られる構造と特徴の識別のための用語 セール価格Member Price: ¥113
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M05800 - SEMI M58 - DMA ベースの粒子堆積システムおよびプロセスを評価するための試験方法
SEMI M58 - DMA ベースの粒子堆積システムおよびプロセスを評価するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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M04100 - SEMI M41 - パワーデバイス/IC 用のシリコンオンインシュレータ (SOI) の仕様
SEMI M41 - パワーデバイス/IC 用のシリコンオンインシュレータ (SOI) の仕様 セール価格Member Price: ¥113
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M06300 - SEMI M63 - 高分解能X線回折によるGaAs基板上のAlGaAsのAl分率を測定するための試験方法
SEMI M63 - 高分解能X線回折によるGaAs基板上のAlGaAsのAl分率を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M02100 - SEMI M21 - デカルト配列内の長方形要素にアドレスを割り当てるためのガイド
SEMI M21 - デカルト配列内の長方形要素にアドレスを割り当てるためのガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF161800 - SEMI MF1618 - シリコンウェーハ上の薄膜の均一性測定の実践
SEMI MF1618 - シリコンウェーハ上の薄膜の均一性測定の実践 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF104900 - SEMI MF1049 - シリコンウェーハの浅いエッチピット検出の実践
SEMI MF1049 - シリコンウェーハの浅いエッチピット検出の実践 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M08100 - SEMI M81 - 単結晶炭化ケイ素基板で見つかった欠陥に関するガイド
SEMI M81 - 単結晶炭化ケイ素基板で見つかった欠陥に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
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M07900 - SEMI M79 - 太陽電池用途向けの円形 100 mm 研磨単結晶ゲルマニウム ウェーハの仕様
SEMI M79 - 太陽電池用途向けの円形 100 mm 研磨単結晶ゲルマニウム ウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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M06100 - SEMI M61 - 埋め込み層を備えたシリコンエピタキシャルウェーハの仕様
SEMI M61 - 埋め込み層を備えたシリコンエピタキシャルウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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F02500 - SEMI F25 - グレード 10/0.2 酸化剤特殊ガスの粒子濃度の仕様
SEMI F25 - グレード 10/0.2 酸化剤特殊ガスの粒子濃度の仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MF092800 - SEMI MF928 - 円形半導体ウェーハおよびリジッドディスク基板のエッジ輪郭の試験方法
SEMI MF928 - 円形半導体ウェーハおよびリジッドディスク基板のエッジ輪郭の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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F03700 - SEMI F37 - ガス分配システムコンポーネントの表面粗さパラメータを決定するための試験方法
SEMI F37 - ガス分配システムコンポーネントの表面粗さパラメータを決定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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