SEMI F63 - 半導体プロセスで使用される超純水のガイド -

Abstract

このガイドは次の場合に使用できます。

•          パフォーマンス基準を確立するには 超純水（UPW）精製装置を購入します。

•         プロセス制御パラメータを設定するには UPWシステムの動作。

•         に対する品質期待を確立するには、 UPW を供給します。

これらの推奨ガイドラインは技術情報として公開されています。 情報であり、情報提供のみを目的としています。

UPWは半導体の製造に広く使用されています すべての湿式処理ステップ (ウェーハのリンスを含む) 用の装置。 UPW純度は したがって、半導体の製造にとって重要です。このガイドが提供するのは、 UPW の品質パラメーターと意思決定のための背景情報 半導体を製造する新規または改修施設に関連するプロセス 線幅は 32 nm 以下です。

UPW スコープには、定義時にホット UPW (HUPW) も含まれます。 UPW の品質基準。

デバイスの国際ロードマップのメンバーの目標 およびシステム (IRDS) UPW 委員会は、継続的に数年先を見据えて、 半導体業界の将来の UPW 技術要件を評価します。の IRDS の意見に加えて、液体化学品グローバル技術委員会 の実現可能性とコスト実現可能性に関する知識に貢献しました。 この文書で指定されている UPW 品質値をサポートするために必要な技術ソリューション ガイド。

このガイドの情報は、 以下の情報源:

•     施設からの情報を活用した IRDS リスク評価 - 半導体の製造専門家と技術プロバイダー 製造業。

•        半導体におけるUPW試験の結果 高いテストを行う独立した研究所によって測定された製造現場 半導体産業用の純水。

- 水道設備の仕様 メーカー。

SEMI Standards Liquid における UPW の生産者とユーザーからの意見 化学グローバル技術委員会の会議および投票を通じて プロセス。

参照SEMI規格（別途購入）

SEMI C1 — 液体化学物質の分析ガイド

SEMI C10 — 検出方法の決定に関するガイド 限界

SEMI C79 — サブ15nmの有効性を評価するためのガイド 超純水 (UPW) 供給システムで使用されるフィルター

SEMI C93 — イオンの品質を決定するためのガイド ポーランドの超純水システム用途で使用される交換樹脂

SEMI F61 — の設計と運用のためのガイド 半導体超純水装置

SEMI F75 — 超純水の品質監視ガイド 半導体製造で使用される

改訂履歴

SEMI F63-0521 (技術改訂)

SEMI F63-0918 (技術改訂)

SEMI F63-1016 (技術改訂)

SEMI F63-0213 (技術改訂)

SEMI F63-0211 (技術改訂)

SEMI F63-0309 (技術改訂)

SEMI F63-0701 (初公開)

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