SEMI Standards

SEMI International Standards form the foundation for innovation in the microelectronics industry. The SEMI Standards process has been used to create more than 1,000 industry approved Standards and Safety Guidelines, based on the work of more than 5,000 volunteers in key topics including safety, materials, packaging, traceability and cybersecurity. For 50 years, SEMI Standards have helped reduce manufacturing complexity, which enables customer cost reduction, improved supplier quality, and shorter time-to-market. Each year, more than 1,000 companies purchase and use SEMI Standards to improve manufacturing operations.

Individual SEMI Standards

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M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量、ROA を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法
M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量(ROA)を使ってウェーハのエッジ近傍形状を決定するための作業方法
M07800 - SEMI M78 - 大量生産における 130 nm ~ 22 nm 世代のパターン化されていないシリコン ウェーハのナノトポグラフィーを決定するためのガイド
M07800 - SEMI M78 - 量産時における130nmから22nm世代のパターンなしシリコンウェーハ上のナノトポグラフィー決定に関するガイド
M07900 - SEMI M79 - 太陽電池用途向けの円形 100 mm 研磨単結晶ゲルマニウム ウェーハの仕様
M07900 - SEMI M79 - 太陽電池用円盤状100mm鏡面研磨単結晶ゲルマニウムウェーハの仕様
M08000 - SEMI M80 - 450 mmウェーハの搬送および出荷用フロントオープニング・シッピングボックスの機械仕様
M08000 - SEMI M80 - 450 mm ウェーハの輸送および出荷に使用される前開き輸送ボックスの仕様
M08100 - SEMI M81 - 単結晶炭化ケイ素基板で見つかった欠陥に関するガイド
SEMI M81 - 単結晶炭化ケイ素基板で見つかった欠陥に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M08100 - SEMI M81 - 単結晶シリコンカーバイド基板に存在する欠陥についてのガイド
M08200 - SEMI M82 - 赤外吸収分光法による半絶縁性ガリウムヒ素単結晶中の炭素アクセプター濃度の試験方法
M08300 - SEMI M83 - III-V族化合物半導体の単結晶における転位エッチピット密度を測定するための試験方法
M08400 - SEMI M84 - 窒化ガリウム・オン・シリコン用途向けの研磨単結晶シリコンウェーハの仕様
M08500 - SEMI M85 - 誘導結合プラズマ質量分析によるシリコンウェーハ表面の微量金属汚染の測定に関するガイド
M08600 - SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様
SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
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