SEMI Standards

SEMI International Standards form the foundation for innovation in the microelectronics industry. The SEMI Standards process has been used to create more than 1,000 industry approved Standards and Safety Guidelines, based on the work of more than 5,000 volunteers in key topics including safety, materials, packaging, traceability and cybersecurity. For 50 years, SEMI Standards have helped reduce manufacturing complexity, which enables customer cost reduction, improved supplier quality, and shorter time-to-market. Each year, more than 1,000 companies purchase and use SEMI Standards to improve manufacturing operations.

Individual SEMI Standards

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M06000 - SEMI M60 - Si ウェーハ評価用の SiO2 膜の時間依存性絶縁破壊特性の試験方法
M06000 - SEMI M60 - シリコンウェーハ評価のためのSiO2の経時絶縁破壊特性の試験方法
M06100 - SEMI M61 - 埋め込み層を備えたシリコンエピタキシャルウェーハの仕様
SEMI M61 - 埋め込み層を備えたシリコンエピタキシャルウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M06100 - SEMI M61 - 埋め込み層付きシリコンエピタキシャルウェーハの仕様
SEMI M61 - 埋め込み層付きシリコンエピタキシャルウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
M06200 - SEMI M62 - シリコンエピタキシャルウェーハの仕様
M06200 - SEMI M62 - シリコンエピタキシャルウェーハの仕様
SEMI M62 - シリコンエピタキシャルウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
M06300 - SEMI M63 - 高分解能X線回折によるGaAs基板上のAlGaAsのAl分率を測定するための試験方法
M06300 - SEMI M63 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハに使用するサファイア基板の仕様
M06400 - SEMI M64 - 赤外吸収分光法による半絶縁性 (SI) ガリウムヒ素単結晶中の EL2 ディープドナー濃度の試験方法
M06400 - SEMI M64 - 赤外線吸収スペクトルによる絶縁(SI)ガリウムヒ素単結晶内のEL2深いドナー濃度の試験方法
M06500 - SEMI M65 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハに使用するサファイア基板の仕様
M06500 - SEMI M65 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハに使用するサファイア基板の仕様
M06600 - SEMI M66 - MISフラットバンド電圧―絶縁膜厚法を使った、酸化膜、およびhigh-κゲートスタックの有効な仕事関数の計算方法
M06600 - SEMI M66 - MIS フラット バンド電圧絶縁体厚さ技術を使用して酸化物および High-K ゲート スタックの実効仕事関数を抽出するテスト方法
M06700 - SEMI M67 - ESFQR、ESFQD、およびESBIRメトリクスを使用して、測定された厚さのデータ配列からウェーハのニアエッジ形状を決定するためのテスト方法
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