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M05300 - SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面上の単分散基準球の認定された堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践
SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面上の単分散基準球の認定された堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践 セール価格Member Price: ¥113
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M04900 - SEMI M49 - 130 nm ～ 16 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハの形状測定システムを指定するためのガイド
SEMI M49 - 130 nm ～ 16 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハの形状測定システムを指定するためのガイド セール価格Member Price: ¥113
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PV01300 - SEMI PV13 - 渦電流センサーを使用したシリコンウェーハ、インゴット、およびブリックの非接触過剰電荷キャリア再結合寿命測定のテスト方法
SEMI PV13 - 渦電流センサーを使用したシリコンウェーハ、インゴット、およびブリックの非接触過剰電荷キャリア再結合寿命測定のテスト方法 セール価格Member Price: ¥113
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PV05200 - SEMI PV52 - 粒径に関する太陽電池シリコンウェーハのインライン特性評価のための試験方法
SEMI PV52 - 粒径に関する太陽電池シリコンウェーハのインライン特性評価のための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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E05800 - SEMI E58 - 自動化による信頼性，有用性，および整備性に関する基準（ARAMS）：コンセプト，挙動，およびサービス
SEMI E58 - 自動化による信頼性，有用性，および整備性に関する基準（ARAMS）：コンセプト，挙動，およびサービス セール価格Member Price: ¥135
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E10100 - SEMI E101 - EFEM機能構造モデルのガイド
SEMI E101 - EFEM機能構造モデルのガイド セール価格Member Price: ¥135
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M05900 - SEMI M59 - シリコンテクノロジーの用語
SEMI M59 - シリコンテクノロジーの用語 セール価格Member Price: ¥113
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MF067300 - SEMI MF673 - 非接触渦電流計を使用した半導体ウェハの抵抗率または半導体膜のシート抵抗を測定するための試験方法
SEMI MF673 - 非接触渦電流計を使用した半導体ウェハの抵抗率または半導体膜のシート抵抗を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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MF039700 - SEMI MF397 - 2 点プローブを使用したシリコンバーの抵抗率の試験方法
SEMI MF397 - 2 点プローブを使用したシリコンバーの抵抗率の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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F05600 - SEMI F56 - マスフローコントローラーの定常状態電源電圧の影響を測定するための試験方法
SEMI F56 - マスフローコントローラーの定常状態電源電圧の影響を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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M00900 - SEMI M9 - 研磨単結晶ガリウムヒ素ウェハの仕様
SEMI M9 - 研磨単結晶ガリウムヒ素ウェハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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E11900 - SEMI E119 - 300 mm ウェーハの工場間輸送用の縮小ピッチフロントオープンボックスの機械仕様
SEMI E119 - 300 mm ウェーハの工場間輸送用の縮小ピッチフロントオープンボックスの機械仕様 セール価格Member Price: ¥113
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E01501 - SEMI E15.1 - 300 mm装置ロードポートのための仕様
SEMI E15.1 - 300 mm装置ロードポートのための仕様 セール価格Member Price: ¥135
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PV07000 - SEMI PV70 - レーザー三角測量センサーによる太陽光発電 (PV) シリコンウェーハ上のソーマークのインライン測定のテスト方法
SEMI PV70 - レーザー三角測量センサーによる太陽光発電 (PV) シリコンウェーハ上のソーマークのインライン測定のテスト方法 セール価格Member Price: ¥113
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E16100 - SEMI E161 - トレーニング階層の識別と分類に関するガイド
SEMI E161 - トレーニング階層の識別と分類に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
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MF052500 - SEMI MF525 - 広がり抵抗プローブを使用したシリコンウェーハの抵抗率測定の試験方法
SEMI MF525 - 広がり抵抗プローブを使用したシリコンウェーハの抵抗率測定の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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G07700 - SEMI G77 - 300 mm ウェーハ用フレームカセットの仕様
SEMI G77 - 300 mm ウェーハ用フレームカセットの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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G01000 - SEMI G10 - プラスチックパッケージリードフレームの機械測定の標準方法
SEMI G10 - プラスチックパッケージリードフレームの機械測定の標準方法 セール価格Member Price: ¥113
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M01300 - SEMI M13 - シリコンウェーハの英数字マーキングの仕様
SEMI M13 - シリコンウェーハの英数字マーキングの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MF118800 - SEMI MF1188 - 短いベースラインでの赤外線吸収によるシリコンの格子間酸素含有量の試験方法
SEMI MF1188 - 短いベースラインでの赤外線吸収によるシリコンの格子間酸素含有量の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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HB00400 - SEMI HB4 - 高輝度 LED 製造装置用通信インターフェースの仕様 (HB-LED ECI)
SEMI HB4 - 高輝度 LED 製造装置用通信インターフェースの仕様 (HB-LED ECI) セール価格Member Price: ¥113
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MF008100 - SEMI MF81 - シリコンウェーハの半径方向抵抗率変化を測定するための試験方法
SEMI MF81 - シリコンウェーハの半径方向抵抗率変化を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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M06400 - SEMI M64 - 赤外吸収分光法による半絶縁性 (SI) ガリウムヒ素単結晶中の EL2 ディープドナー濃度の試験方法
SEMI M64 - 赤外吸収分光法による半絶縁性 (SI) ガリウムヒ素単結晶中の EL2 ディープドナー濃度の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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MF153000 - SEMI MF1530 - 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハの平坦度、厚さ、総厚さの変動を測定する試験方法
SEMI MF1530 - 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハの平坦度、厚さ、総厚さの変動を測定する試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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