SEMI Standards

SEMI International Standards form the foundation for innovation in the microelectronics industry. The SEMI Standards process has been used to create more than 1,000 industry approved Standards and Safety Guidelines, based on the work of more than 5,000 volunteers in key topics including safety, materials, packaging, traceability and cybersecurity. For 50 years, SEMI Standards have helped reduce manufacturing complexity, which enables customer cost reduction, improved supplier quality, and shorter time-to-market. Each year, more than 1,000 companies purchase and use SEMI Standards to improve manufacturing operations.

Individual SEMI Standards

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M06300 - SEMI M63 - 高分解能X線回折によるGaAs基板上のAlGaAsのAl分率を測定するための試験方法
M06400 - SEMI M64 - 赤外吸収分光法による半絶縁性 (SI) ガリウムヒ素単結晶中の EL2 ディープドナー濃度の試験方法
M06500 - SEMI M65 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハに使用するサファイア基板の仕様
M06600 - SEMI M66 - MIS フラット バンド電圧絶縁体厚さ技術を使用して酸化物および High-K ゲート スタックの実効仕事関数を抽出するテスト方法
M06700 - SEMI M67 - ESFQR、ESFQD、およびESBIRメトリクスを使用して、測定された厚さのデータ配列からウェーハのニアエッジ形状を決定するためのテスト方法
M06800 - SEMI M68 - 曲率メトリック、ZDD を使用して測定された高さデータ配列からウェーハのニアエッジ形状を決定するためのテスト方法
M07000 - SEMI M70 - 部分的なウェーハサイトの平坦度を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法
M07100 - SEMI M71 - CMOS LSI用シリコン・オン・インシュレータ(SOI)ウェーハの仕様
M07300 - SEMI M73 - 測定されたウェーハエッジプロファイルから関連特性を抽出するための試験方法
M07400 - SEMI M74 - 直径 450 mm の研磨ウェーハの機械的取り扱いの仕様
SEMI M74 - 直径 450 mm の研磨ウェーハの機械的取り扱いの仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M07500 - SEMI M75 - 研磨単結晶ガリウムアンチモン化ウェハの仕様
SEMI M75 - 研磨単結晶ガリウムアンチモン化ウェハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M07600 - SEMI M76 - 開発中の直径 450 mm 研磨単結晶シリコン ウェーハの仕様
M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量、ROA を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法
M07800 - SEMI M78 - 大量生産における 130 nm ~ 22 nm 世代のパターン化されていないシリコン ウェーハのナノトポグラフィーを決定するためのガイド
M07900 - SEMI M79 - 太陽電池用途向けの円形 100 mm 研磨単結晶ゲルマニウム ウェーハの仕様
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