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G04200 - SEMI G42 - 半導体パッケージの接合部から周囲までの熱抵抗を測定するための熱試験ボードの標準化仕様
F02400 - SEMI F24 - グレード 10/0.2 不活性特殊ガスの粒子濃度の仕様
SEMI F24 - グレード 10/0.2 不活性特殊ガスの粒子濃度の仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MF004200 - SEMI MF42 - 外部半導体材料の導電型の試験方法
SEMI MF42 - 外部半導体材料の導電型の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF004300 - SEMI MF43 - 半導体材料の抵抗率の試験方法
SEMI MF43 - 半導体材料の抵抗率の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF084700 - SEMI MF847 - X線技術による単結晶シリコンウェーハ上の平坦部の結晶方位を測定するための試験方法
MF161900 - SEMI MF1619 - ブリュースター角でのp偏光放射線入射による赤外吸収分光法によるシリコンウェーハの格子間酸素含有量の測定のための試験方法
F10100 - SEMI F101 - ガス供給システムにおける圧力調整器の性能を決定するための試験方法
F07500 - SEMI F75 - 半導体製造で使用される超純水の品質監視ガイド
SEMI F75 - 半導体製造で使用される超純水の品質監視ガイド セール価格Member Price: ¥113
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HB00900 - SEMI HB9 - HB-LED の製造に使用される GaN エピタキシャル ウェーハの表面欠陥の目視検査の試験方法と合格基準
M08000 - SEMI M80 - 450 mm ウェーハの輸送および出荷に使用される前開き輸送ボックスの仕様
G04300 - SEMI G43 - プラスチックモールドパッケージの接合部とケース間の熱抵抗のための試験方法
F08100 - SEMI F81 - 半導体製造アプリケーションの流体分配システムにおけるガスタングステンアーク (GTA) 溶接の外観検査および合格に関する仕様
MF123900 - SEMI MF1239 - 格子間酸素還元の測定によるシリコンウェーハの酸素析出特性の試験方法
MF052300 - SEMI MF523 - 研磨されたシリコンウェーハ表面の肉眼による検査の実践
SEMI MF523 - 研磨されたシリコンウェーハ表面の肉眼による検査の実践 セール価格Member Price: ¥113
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M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量、ROA を使用してウェーハのニアエッジ形状を決定するための試験方法
MF002600 - SEMI MF26 - 半導体単結晶の配向を決定するための試験方法
SEMI MF26 - 半導体単結晶の配向を決定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M08600 - SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様
SEMI M86 - 研磨単結晶 c 面窒化ガリウムウェハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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F04000 - SEMI F40 - 化学試験用の液体化学物質分配コンポーネントとニートポリマーの準備の実践
M05900 - SEMI M59 - シリコン技術の用語集
SEMI M59 - シリコン技術の用語集 セール価格Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100
F06400 - SEMI F64 - マスフローコントローラーの表示流量および実際の流量に対する圧力の影響を測定するための試験方法
MF057600 - SEMI MF576 - エリプソメトリーによるシリコン基板上の絶縁体の厚さと屈折率の測定のための試験方法
G02800 - SEMI G28 - プラスチックモールドSOパッケージのリードフレームのための仕様
M06600 - SEMI M66 - MISフラットバンド電圧―絶縁膜厚法を使った、酸化膜、およびhigh-κゲートスタックの有効な仕事関数の計算方法
F06300 - SEMI F63 - 半導体プロセスで使用される超純水のガイド
SEMI F63 - 半導体プロセスで使用される超純水のガイド セール価格Member Price: ¥252
Non-Member Price: ¥62,700
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