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G02400 - SEMI G24 - パッケージ・リードの間および付加容量の測定のための容量の試験方法
SEMI G24 - パッケージ・リードの間および付加容量の測定のための容量の試験方法 セール価格Member Price: ¥135
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F06100 - SEMI F61 - 半導体超純水システムの設計および運用ガイド
SEMI F61 - 半導体超純水システムの設計および運用ガイド セール価格Member Price: ¥113
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MF104800 - SEMI MF1048 - 反射全積分散乱を測定するための試験方法MF104800 - SEMI MF1048 - 反射全積分散乱を測定するための試験方法
SEMI MF1048 - 反射全積分散乱を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M06600 - SEMI M66 - MIS フラット バンド電圧絶縁体厚さ技術を使用して酸化物および High-K ゲート スタックの実効仕事関数を抽出するテスト方法
SEMI M66 - MIS フラット バンド電圧絶縁体厚さ技術を使用して酸化物および High-K ゲート スタックの実効仕事関数を抽出するテスト方法 セール価格Member Price: ¥113
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M07300 - SEMI M73 - 測定されたウェーハエッジプロファイルから関連特性を抽出するための試験方法
SEMI M73 - 測定されたウェーハエッジプロファイルから関連特性を抽出するための試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF115200 - SEMI MF1152 - シリコンウェーハのノッチ寸法の試験方法
SEMI MF1152 - シリコンウェーハのノッチ寸法の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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MF072800 - SEMI MF728 - 寸法測定用の光学顕微鏡の準備の演習
SEMI MF728 - 寸法測定用の光学顕微鏡の準備の演習 セール価格Member Price: ¥113
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M06000 - SEMI M60 - シリコンウェーハ評価のためのSiO2の経時絶縁破壊特性の試験方法
SEMI M60 - シリコンウェーハ評価のためのSiO2の経時絶縁破壊特性の試験方法 セール価格Member Price: ¥135
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M04600 - SEMI M46 - ECV法によりエピタキシァル層内のキャリア密度を測定するための試験方法
SEMI M46 - ECV法によりエピタキシァル層内のキャリア密度を測定するための試験方法 セール価格Member Price: ¥135
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MF152900 - SEMI MF1529 - デュアル構成手順によるインライン 4 点プローブによるシート抵抗均一性評価のテスト方法
SEMI MF1529 - デュアル構成手順によるインライン 4 点プローブによるシート抵抗均一性評価のテスト方法 セール価格Member Price: ¥113
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G04500 - SEMI G45 - 熱硬化性成形材料のフラッシュ特性の実践
SEMI G45 - 熱硬化性成形材料のフラッシュ特性の実践 セール価格Member Price: ¥113
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F03400 - SEMI F34 - 液体化学パイプのラベル貼付ガイド
SEMI F34 - 液体化学パイプのラベル貼付ガイド セール価格Member Price: ¥113
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MF153500 - SEMI MF1535 - マイクロ波反射率による光導電率減衰の非接触測定による電子グレードのシリコンウェーハのキャリア再結合寿命の試験方法
SEMI MF1535 - マイクロ波反射率による光導電率減衰の非接触測定による電子グレードのシリコンウェーハのキャリア再結合寿命の試験方法 セール価格Member Price: ¥113
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M04200 - SEMI M42 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハの仕様
SEMI M42 - 化合物半導体エピタキシャルウェーハの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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MF152700 - SEMI MF1527 - シリコンの抵抗率を測定する機器の校正および制御のための認定標準物質および基準ウェーハの適用に関するガイド
SEMI MF1527 - シリコンの抵抗率を測定する機器の校正および制御のための認定標準物質および基準ウェーハの適用に関するガイド セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
MF172700 - SEMI MF1727 - 研磨シリコンウェーハの酸化誘発欠陥の検出の実践
SEMI MF1727 - 研磨シリコンウェーハの酸化誘発欠陥の検出の実践 セール価格Member Price: ¥113
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MF011000 - SEMI MF110 - アングルラッピングおよびステイン技術によるシリコンのエピタキシャル層または拡散層の厚さの試験方法
SEMI MF110 - アングルラッピングおよびステイン技術によるシリコンのエピタキシャル層または拡散層の厚さの試験方法 セール価格Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900
M06800 - SEMI M68 - 測定した高さデータ配列から曲率法ZDDを使ってウェーハのエッジ近傍形状を決定するための作業方法
SEMI M68 - 測定した高さデータ配列から曲率法ZDDを使ってウェーハのエッジ近傍形状を決定するための作業方法 セール価格Member Price: ¥135
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M01200 - SEMI M12 - ウェーハ前面のシリアル英数字マーキングの仕様
SEMI M12 - ウェーハ前面のシリアル英数字マーキングの仕様 セール価格Member Price: ¥113
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M01700 - SEMI M17 - ユニバーサルウェーハグリッド用ガイド
SEMI M17 - ユニバーサルウェーハグリッド用ガイド セール価格Member Price: ¥113
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M05400 - SEMI M54 - 半絶縁性 (SI) GaAs 材料パラメータのガイド
SEMI M54 - 半絶縁性 (SI) GaAs 材料パラメータのガイド セール価格Member Price: ¥113
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MF008400 - SEMI MF84 - インライン 4 点プローブを使用してシリコン ウェーハの抵抗率を測定するテスト方法
SEMI MF84 - インライン 4 点プローブを使用してシリコン ウェーハの抵抗率を測定するテスト方法 セール価格Member Price: ¥113
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G01100 - SEMI G11 - 熱硬化性成形コンパウンドの RAM フォロワーゲルタイムとスパイラルフローの実践
SEMI G11 - 熱硬化性成形コンパウンドの RAM フォロワーゲルタイムとスパイラルフローの実践 セール価格Member Price: ¥113
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F07800 - SEMI F78 - 半導体製造アプリケーションにおける流体分配システムのガスタングステンアーク（GTA）溶接の実践
SEMI F78 - 半導体製造アプリケーションにおける流体分配システムのガスタングステンアーク（GTA）溶接の実践 セール価格Member Price: ¥225
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