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SEMI PV3 - 광전지 공정에 사용되는 고순도 물 가이드 -
Abstract
이 표준은 Photovoltaic - Materials Global Technical Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 에디션은 2015년 8월 31일 글로벌 감사 및 검토 소위원회의 출판 승인을 받았습니다. 2015년 11월 www.semiviews.org 및 www.semi.org에서 볼 수 있습니다. 원래 2010년 3월에 출판되었습니다.
이 가이드는 다양한 목적으로 제공됩니다. 새로운 고순도수(HPW) 장비 구매를 위한 성능 기준을 수립하기 위한 근거로 사용될 수 있습니다. 또한 HPW 시스템 작동을 위한 공정 제어 매개변수를 설정하기 위해 시설 엔지니어가 내부적으로 사용할 수도 있습니다. 이 가이드는 공정 엔지니어가 시설에서 공급하는 HPW의 품질에 대한 합리적인 기대치를 설정하는 데 사용할 수 있습니다.
물은 기판 웨이퍼 및 패널의 헹굼과 같은 모든 습식 처리 단계를 위한 광전지 생산 및 관련 제조에 광범위하게 사용됩니다. HPW는 일반적으로 역삼투/탈이온 수지 베드 기술을 사용하여 이러한 목적으로 생산됩니다. 수질은 장치 수율에 영향을 미칩니다. 더 높은 순도의 물에 대한 요구 사항은 시간이 지남에 따라 광전지의 변화에 따라 증가할 수 있습니다.
이 지침은 태양광 제조용으로 생산된 HPW를 대상으로 합니다.
이 가이드라인은 일반 태양광 제조 시설과 중요한 제조 도구를 모두 고려합니다.
수질 사양을 위한 위치는 HPW 분배 측면에서 제조 도구의 연결 지점(POC)인 사용 지점(POU)에서 정의됩니다.
참조된 SEMI 표준
SEMI C1 — 액체 화학물질 분석 가이드
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