P04500 - SEMI P45 - 마스크 툴용 작업 데크 데이터 형식 사양

SEMI P45 - 마스크 툴용 작업 데크 데이터 형식 사양 -

Member Price: ₩113
Non-Member Price: ₩290,000

Volume(s): Microlithography
Language: English

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Type: Single Standards Download (.pdf)

개정: SEMI P45-0421 - 현재

개정

Abstract

이 문서는 마스크 도구, 즉 'MALY'에 대한 일반적인 작업 데크 데이터 형식 사양을 정의합니다.


MALY 사양은 마스크 도구의 입력 데이터 형식에 적용됩니다.

참조 SEMI 표준 (별도 구매)

SEMI P39 — OASIS® 사양 – 오픈 아트워크 시스템 교환 표준

SEMI P44 — 마스크 도구 전용 OASIS®(Open Artwork System Interchange Standard) 사양

개정 내역

SEMI P45-0421(기술 개정)

SEMI P45-1218(기술 개정)

SEMI P45-0211(기술 개정)

SEMI P45-0708(기술 개정)

SEMI P45-0306(최초 공개)

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