이 상품은 아직 리뷰가 없습니다.
SEMI P41 - XML에 による，検査装置，修正装置 およびレviewー装置間で取扱うマスク欠陥データ仕様 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項： このSEMIstandadeは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本仕様は, Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである.現版は，200年月9日Japanese Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能になり，2004年3月発行に至る.
E本standared는 2004년 9월, 編集上の誤りを修正判修改訂された.表2および3で変更がなされている.
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
このデータ構造仕様は，maskfabe 内のmask欠陥検査装置，欠陥修正装置，レviewー装置間で扱う欠陥情報交換を，標準的ＸＭＬfo-mattを使用して行うものである.
装置間で欠陥情報を相互利用用.
欠陥検査装置，欠陥修正装置，レビュー装置以外の装置，Systemでの選択利用。
この標準化されたデータ構造を用いる装置sapraidヤは，特定のソftweea およびhard-weeaに依存する事なく，必要な情報の送受信がきる.
本standardは，半導体製造用 fotomaskの欠陥関連情報に適応できるものとする.
このデータ構造は，送信されるＸＭＬfァylの階層構造とTAG名及び内容を定義する。このstandadeーdによって，特定のデータベースや프로그라밍言語が指定されることは無い。
참조된 SEMI 표준
없음.
 |
Interested in purchasing additional SEMI Standards? Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards. |
Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.
이 상품은 아직 리뷰가 없습니다.
You May also Like
