
SEMI P31 - 화학 증폭(CA) 포토레지스트 매개변수에 대한 카탈로그 발행 실습 -
Abstract
이 표준은 Micropatterning Global Technical Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 에디션은 2011년 5월 13일에 글로벌 감사 및 검토 소위원회의 출판 승인을 받았습니다. 2011년 6월에 www.semiviews.org 및 www.semi.org에서 볼 수 있습니다. 1997년 9월에 처음 출판되었습니다. 이전에 출판된 2004년 3월.
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
알림: 이 문서는 약간의 편집 변경을 거쳐 재승인되었습니다.
이 문서의 목적은 화학 증폭(CA) 포토레지스트 매개변수를 게시하기 위한 기준선을 제공하는 것입니다.
이 문서는 반도체 제조에 사용되는 CA 포토레지스트에 적용됩니다.
이 문서는 포토레지스트 공정 매개변수를 평가하기 위한 가이드로 사용됩니다.
이 문서는 품질 보증에 적용되지 않습니다.
참조된 SEMI 표준 없음.
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