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SEMI P26 - 포토레지스트의 감성 밀도 측정용 파라메타 체크리스트 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項： このSEMIstandadeは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本checkrist는, 글로벌 마이크로패터닝 위원회로 技術的に承認されたもので，일본 마이크로패터닝 위원회는 接責任を負うものである。현재 는2003 년 4월 28 일일본지역표준위원회 에서 にて承認れている。まず， 2003年6月www.semi.orgで入手可能になり， 2003年7月発行に至る。初版は，1996年発行。
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
이 체크리스트는, 포트레지스트의 사프라이야 およびユーザの間の差をなくすために, 포트레지스트감도의 결정용 파라메타를 확인하는 것입니다.
本gaidline은 は，ポジレジスト（ positive photoresist ）を意図している。
レジストのサプライヤとユーザとの間の打ち合わせにおいて，数量的な値については，parameter毎になされるべきである。
참조된 SEMI 표준
SEMI P27 — 기판의 레지스트 두께 측정을 위한 매개변수 체크리스트
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