SEMI P10 - 포트마스크오더의 데이터 사양 -

Abstract

本standared는, 글로벌 마이크로 패터닝 위원회 で技術的に承認されている。現版は2008年5月13日， global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2006年6 月にwww.semi.org 에서 ，そして2008年7月にCD-ROM で入手可能となる。 初版は1990年発行，前版は2007 年7 月に発行された。

 

이 데이터는 다음과 같습니다.

·마스크유자에 의한 자동차의 오다에 대한 힘, 마스크에 대한 마스크에 대한 오다의 자동차의 기술.

·마스크샵에 있는 마스크의 종류와 제품에 대한 데이터, 자동차에 관한 데이터, 마스크에 대한 데이터에 대한 데이터의 자동 데이터.

 

この標準化されたデータ構造を用いてmaskユーザmatataはmask業者のどちらかに対し，それぞれ独立に書かれたソftweaを他のgluーphによって書かれたソフトウェアと確実に通信できるようにすべきである.

참조된 SEMI 표준

SEMI P1 — 경질 표면 포토마스크 기판 사양
SEMI P2 — 경질 표면 포토마스크용 크롬 박막 사양
SEMI P4 — 원형 석영 포토마스크 기판 사양
SEMI P5 — 펠리클 사양
SEMI P6 — 포토마스크 등록 표시 사양
SEMI P21 — 마스크 쓰기 장비의 정밀도 및 정확도 표현 지침
SEMI P22 — 포토마스크 결함 분류 및 크기 정의에 대한 지침
SEMI P24 — CD 계측 절차
SEMI P29 — 하프톤/감쇠 위상 편이 마스크 및 마스크 블랭크에 특정한 특성 설명에 대한 지침
SEMI P35 - 마이크로리소그래피 계측용 용어
SEMI P37 — 극자외선 리소그래피 마스크 기판 사양
SEMI P38 — 극자외선 리소그래피 마스크 블랭크의 흡수 필름 ​​스택 및 다층에 대한 사양
SEMI P39 — 오픈 아트워크 시스템 교환 표준(OASIS) 사양
SEMI P43 — 포토마스크 검증 용어

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