SEMI P6 - 포토마스크 등록 표시 사양 -

Member Price: ₩113
Non-Member Price: ₩245,000

Volume(s): Microlithography
Language: English
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

개정: SEMI P6-88(0707 재승인) - 비활성

개정

Abstract

이 표준은 글로벌 Micropatterning Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 판은 2007년 4월 25일에 글로벌 감사 및 검토 소위원회의 출판 승인을 받았습니다. 2007년 6월에 www.semi.org에서 볼 수 있었습니다. 원래는 1988년에 출판되었습니다.

알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.

이 사양은 동일한 포토마스크 세트 내에서 하나의 이미지화된 포토마스크와 다른 이미지화된 포토마스크의 레지스트레이션 정확도를 결정하기 위한 명시적인 목적을 위해 포토마스크에 포토리소그래피 방식으로 배치된 정의된 마크를 다룹니다.

이 사양은 모든 포토마스크에 사용하기 위한 등록 표시의 모양, 크기 범위 및 일반적인 배치를 정의합니다. 사용 방법은 첨부된 애플리케이션 노트(추후 제공 예정)에 명시됩니다.

참조된 SEMI 표준

없음.

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