SEMI M56 - 측정 변동성 및 편향으로 인한 계측 장비의 비용 구성 요소 결정을 위한 실습 -

Abstract

이 표준은 Silicon Wafer Global Technical Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 에디션은 2018년 8월 17일 글로벌 감사 및 검토 소위원회에서 출판 승인을 받았습니다. 2018년 10월 www.semiviews.org 및 www.semi.org에서 제공됩니다. 원래 2003년 11월에 출판되었습니다. 이전에 게시된 2012년 5월.

이 실습은 측정 장비의 변동성과 편향으로 인한 제품의 오분류와 관련된 비용을 결정하는 방법론을 다룹니다. 이러한 비용은 사양을 준수하는 불량 제품 및 사양을 준수하지 않는 통과 제품과 관련됩니다.

이 방법은 사용자가 지정한 조건에서 작동하는 둘 이상의 측정 게이지 간의 상대적 비용 비교에 적용할 수 있습니다. 이러한 조건은 측정 결과에 직간접적으로 영향을 미치는 측정 시스템의 모든 측면(예: 주변 조건, 처리량, 레시피)을 포함할 수 있습니다. 이 방법은 서로 다른 작동 조건에서 단일 기기의 상대적 비용을 비교하는 데에도 사용할 수 있습니다.

측정 게이지는 측정을 수행하는 데 필요한 시스템 및 하위 시스템의 특정 구현으로 정의됩니다. 적어도 하나의 시스템 또는 하위 시스템에서 다른 게이지는 비교를 위해 다른 것으로 간주될 수 있습니다.

이 관행은 모든 계측 장비 또는 계측을 포함하는 모든 장비의 계측 부분에 적용될 수 있습니다.

이 실습은 계측 장비를 사용하여 측정 중인 항목에 대한 이진법 결정을 내리는 경우, 즉 두 가지 결과만 가능(예: 합격/불합격, 합격/불합격, 배송/폐기)하는 경우를 다룹니다. 데이터 비닝과 같이 두 가지 이상의 결과가 있는 의사결정 모델은 이 관행의 범위를 벗어납니다.

이 실습에서 공식을 적용하기 위해 사용자는 프로세스 특성 또는 관심 특성의 확률 밀도 함수(PDF) 또는 누적 분포 함수(CDF)를 추정합니다. 분포는 이론적 모델 또는 제조 데이터에서 얻은 경험적 정보를 기반으로 할 수 있습니다.

이 실습의 공식을 적용하기 위해 사용자는 지정된 작동 조건 및 관심 있는 프로세스 특성과 관련하여 비교되는 장비와 관련된 모든 편향 및 분산을 추정합니다. 이 값은 측정 시스템 능력 분석에서 얻을 수 있습니다(SEMI E89 참조).

이 관행의 방법론을 적용하기 위해 사용자는 측정 결과로 내려진 결정으로 인한 분류 및 오분류 비용을 추정합니다. 이러한 비용의 추정치는 측정이 수행되는 제조 프로세스를 설명하는 데 사용되는 비즈니스 모델에서 얻습니다. 결과적으로 다른 사용자는 계산에 다른 요소가 포함될 수 있기 때문에 다른 비용 추정치에 도달할 수 있습니다.

이 실습의 결과는 평가된 각 프로세스 특성 및 계측 시스템에 대한 측정 변동성 및 편향으로 인한 비용 구성 요소입니다.

참조된 SEMI 표준

SEMI E35 — 반도체 제조 장비의 소유 비용(COO) 메트릭 계산 가이드
SEMI E89 — 측정 시스템 분석(MSA) 가이드
SEMI M1 — 연마된 단결정 실리콘 웨이퍼 사양
SEMI M59 — 실리콘 기술 용어

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