SEMI M40 - 시리콘 웨하 화면의 라후네스 확정 가이드 -

Abstract

本standared는 글로벌 실리콘 웨이퍼 위원회 で技術的に承認されている。現版は2009年9 月4日， global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2009 年10 月にwww.semi.org で，そして2009 年11月にCD-ROM で入手可能となる。初版は2000 年2 月に発行された。

 

 

このgaidは, シリコンウェーハの表面 ラフネスの特徴を調べ，報告するのに使用する測定方法を規定する手順を記述する。それは，さらに他の太平の平ウェー材料にも適用できる。 SEMI M1 に規定されているようなシリコンウェーハの研磨された表面のラフネスは一般にマイクロラフネス領域にあることに注意をすべきである.

このgaid は, 3つの重要な方法を使用するラフネスの決定に関する用語および手順を提供する.

標準化走査個所파탄

ラフネスの略語

特定のラフネス測定の識別に関しての参考試験方法

참조된 SEMI 표준

SEMI E89 — 측정 시스템 분석(MSA) 가이드
SEMI M1 — 연마된 단결정 실리콘 웨이퍼 사양
SEMI M20 — 웨이퍼 좌표계 설정 실습
SEMI M50 — 캡처율 및 오계수율 결정을 위한 테스트 방법

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