SEMI M35 - 自動検査により検出されるシリコンウェーハ表面特性の仕様を開発するためのgaid -

Abstract

本standared는, 글로벌 실리콘 웨이퍼 위원회 で技術的に承認されている。現版は2007年9月5日， global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2007 年10 月にwww.semi.org で，そして2007年11月にCD-ROM で入手可能となる。初版は1999 年2月発行，前版は2005 年11 月に発行された。

 

シリコンウェーハ表面の検査は，すべての商業的に販売されている시리콘웨하において標準な出荷試験となっている。

古い仕様は，Weーハ表面の目視検査を基準としているが，技術の進歩にともなって，多くの表面の検査対象欠陥사이즈が目視検査で行うには小さすぎるようになってきている.このため，（目視検査に変わる)別のやり方の表面検査が必要になってきている.

このgaidは，스캐닝(mataはauto動の)表面検査system(SSIS: 스캐닝 표면 검사 시스템)を用いてシリコンウェーハの表面特性測定を記録するための仕様の枠組みを提供する.

참조된 SEMI 표준

SEMI M1 — 폴리싱된 단결정 폴리싱 실리콘 웨이퍼 사양
SEMI M53 - 패턴이 없는 반도체 웨이퍼 표면에 단분산 폴리스티렌 라텍스 구체의 증착을 사용하여 스캐닝 표면 검사 시스템을 교정하기 위한 실습

Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.