SEMI M9 - 鏡面単結晶gariumヒ素スライスの仕様 -

Abstract

本standared는 글로벌 화합물 반도체 재료 위원회 で技術的に承認されている。現版は2010年12 月21日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2011年2 月にwww.semiviews. org およびwww.semi.org에서 入手可能となる.

 

本仕様は，半導体および電子デバイス製造に使用される単結晶高純度gariumヒ素weーハの2つのグループの基板に対する要求条件について述べている。寸法と結晶方位の特性および表面欠陥の限度のみが下記に標準化された性能として述べられている.

 

종속 문서:

SEMI M9.1-96E(재승인 0308) — 전자 장치 응용 분야를 위한 원형 50.8mm 광택 단결정 갈륨 비소 웨이퍼용 표준

SEMI M9.2-96E(재승인 0308) — 전자 장치 응용 분야를 위한 원형 76.2mm 광택 단결정 갈륨 비소 웨이퍼용 표준

SEMI M9.3-89 — 광전자 애플리케이션을 위한 원형 2인치 직경 광택 단결정 갈륨 비소 슬라이스용 표준

SEMI M9.4-89 — 광전자 애플리케이션을 위한 원형 3인치 직경 광택 단결정 갈륨 비소 슬라이스용 표준

SEMI M9.5-96E(재승인 0308) — 전자 장치 응용 분야를 위한 원형 100mm 광택 단결정 갈륨 비소 웨이퍼용 표준

SEMI M9.6-95E(재승인 0308) — 원형 125mm 직경 연마 단결정 갈륨 비소 웨이퍼용 표준

SEMI M9.7-0708 — 원형 150mm 직경 연마 단결정 갈륨 비소 웨이퍼 사양(노치)

SEMI M9.8-0306 — 원형 200mm 광택 단결정 갈륨 비소 웨이퍼 사양(노치)

 

참조된 SEMI 표준

SEMI MF26 — 반도체 싱글의 방향 결정을 위한 테스트 방법 결정

SEMI MF154 - 경면 실리콘 표면에서 보이는 구조 및 오염 물질 식별 가이드

SEMI MF523 - 연마된 실리콘 웨이퍼 표면의 육안 검사 실습

SEMI MF533 — 실리콘 웨이퍼의 두께 및 두께 변화에 대한 테스트 방법

SEMI MF534 — 실리콘 웨이퍼의 휨에 대한 테스트 방법

SEMI MF657 — 비접촉 스캐닝으로 실리콘 웨이퍼의 휨 및 전체 두께 변화를 측정하는 테스트 방법

SEMI MF671 — 실리콘 웨이퍼 및 기타 전자 재료의 평면 길이 측정을 위한 테스트 방법

SEMI MF928 — 원형 반도체 웨이퍼 및 경질 디스크 기판의 가장자리 윤곽에 대한 테스트 방법

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