SEMI F98 - 半導体프로세스에 관한 정보 -

Abstract

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免責事項：このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡

SEMIstandard日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

 

本standaredは， 시설 글로벌 기술 위원회で技術的に承認されている。現版は2011年9月12日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2011年11月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2005年3月発行。

　

注意:本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された.

　

本gaidでは，半導体製造設備における工業用水再処理시스템の明確な要求条件を定める。これは，そのようなsystemの設計，性能，最適化，および監視に関わる詳細仕様を本gaidに続く文書として作成する際に共通土台となることを意図している.

　

本文書は，現場に固有の仕様および性能判定基準を作成するための土台としてユーザおよびサプライヤが使用できる.

 

本gaidは, 再生や リサイクルも含め, 半導体製造設備で用用 される水の再利用のために設計され, さまざまな用途に水を供給する水systemに適用される。そのような用途には，水質により, 超純水利systemの前工程，冷却system，skraba，熱処理，そして水利systemへの供給がある.

　

本gaidを使用して水の再利用をサポートする水systemの設計要素と機能を理解できる.そのようなsystemは既存の製造工場に後付けきるが,節水を考慮して設計できる新しい施設には,広範囲の機会がある.

　

참조된 SEMI 표준

SEMI E49 — 고순도 및 초고순도 배관 성능, 하위 어셈블리 및 최종 어셈블리 가이드

SEMI F63 - 반도체 공정에 사용되는 초순수 시스템 가이드

SEMI S2 — 반도체 제조 장비에 대한 환경, 건강 및 안전 가이드라인

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