SEMI F63 - 반도체 공정에 사용되는 초순수 가이드 -

Abstract

이 가이드는 다음에서 사용할 수 있습니다.

•          초순수(UPW) 정화 장비 구매 시 성능 기준 수립

•         UPW 시스템 작동을 위한 공정 제어 매개변수를 설정합니다.

•         제공된 UPW에 대한 품질 기대치를 설정합니다.

이 제안된 지침은 기술 정보로 게시되며 정보 제공의 목적으로만 사용됩니다.

UPW는 모든 습식 처리 단계(웨이퍼 린스 포함)를 위한 반도체 장치 생산에 광범위하게 사용됩니다. 따라서 UPW 순도는 반도체 제조에 매우 중요합니다. 이 가이드는 선폭이 32nm 이하인 반도체를 제조하는 신규 또는 개조 시설과 관련된 의사 결정 프로세스에 대한 UPW 품질 매개변수 및 배경 정보를 제공합니다.

UPW 범위에는 UPW 품질 기준을 정의할 때 핫 UPW(HUPW)도 포함됩니다.

IRDS(International Roadmap for Devices and Systems) UPW 위원회 구성원의 목표는 반도체 산업의 향후 UPW 기술 요구 사항을 평가하기 위해 지속적으로 미래를 내다보는 것입니다. IRDS 입력 외에도 Liquid Chemicals Global Technical Committee는 이 가이드에 명시된 UPW 품질 값을 지원하는 데 필요한 기술 솔루션의 실행 가능성 및 비용 실행 가능성에 대한 지식을 제공했습니다.

이 가이드의 정보는 다음 소스에서 개발되었습니다.

•     반도체 제조 산업의 시설 및 제조 전문가와 기술 제공업체의 의견을 반영한 IRDS 위험 평가.

•        반도체 UPW 테스트 결과 독립적인 실험실에서 측정한 높은 테스트를 거친 제조 현장 반도체 산업용 순수.

- 물 시스템 장비 제조업체의 사양.

SEMI Standards Liquid Chemical 글로벌 기술 위원회 회의 및 투표 과정을 통해 UPW 생산자 및 사용자로부터 의견을 받습니다.

참조 SEMI 표준 (별도 구매)

SEMI C1 — 액체 화학물질 분석 가이드

SEMI C10 - 방법 검출 한계 결정을 위한 가이드

SEMI C79 - 초순수(UPW) 분배 시스템에 사용되는 15nm 미만 필터의 효율성 평가 가이드

SEMI C93 - 초순수 시스템의 폴란드 응용 프로그램에 사용되는 이온 교환 수지의 품질 결정을 위한 가이드

SEMI F61 — 설계 및 운영 지침 반도체 초순수 시스템

SEMI F75 — 반도체 제조에 사용되는 초순수 품질 모니터링 가이드

개정 내역

SEMI F63-0521(기술 개정)

SEMI F63-0918(기술 개정)

SEMI F63-1016(기술 개정)

SEMI F63-0213(기술 개정)

SEMI F63-0211(기술 개정)

SEMI F63-0309(기술 개정)

SEMI F63-0701(최초 게시됨)

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