이 상품은 아직 리뷰가 없습니다.
SEMI F55 - 마스플로 콘트로라의 내식성 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項：このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本standared는 Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2012年4月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる.初版は2000年6月発行.
注意:本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された.
masfro-contro-ra( MFC )は，好ましくない条件のもとで腐食性gasを制御するために使用されることが多い.欠陥に対する相対的耐性に基づいてMFC設計を区別するのに役立つことを意図している.
範囲
この試験は, HCl 등의 腐食性gasが大気中の水分などの酸化剤によって汚染されているときに起こる腐蝕の影響を示すことを目的とする。この試験の目的に望ましい試験gasはHClであるが，他のgasでも この試験を実施する ことができる。 この試験方法では，MFCを対象とした腐食性gas曝露試験について説明する。 この試験は，半導体産業で使用されるproses装置와 가스 시스템의内部に見られる状態をシムュレートしながら，腐蝕を加速する ことを意図している.腐蝕と性能との関係はMFC設計によって異なる場合があるため，腐蝕は直接測定されない。腐蝕の影響は，MFCの校正における変化と他の動作parame-taを観察することによって検出する.
참조된 SEMI 표준
SEMI F1 — 고순도 가스 배관 시스템 및 부품의 누출 무결성에 대한 사양
 |
Interested in purchasing additional SEMI Standards? Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards. |
Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.
이 상품은 아직 리뷰가 없습니다.
You May also Like
