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SEMI F28 - 프로세스파넬로부터 파티크루 발열을 측정하는 테스트 방법 -
Abstract
本standanardは, global Gases Committee で技術的に承認されている。現版は2010年4月30日, global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2010年6 月にwww.semi.org で入手可能となる. 初版は1997年発行。前版は2003 年11 月発行。
本文書の目的は,高純度gas配分system中に設置されるprosespanelのtest方法を定義することである.に関して Testされたprosespanel相互間で比較可能なデータを得る ことができると予想される.
本文書は,prosespanelのparteycrum発生性能を比較する test方法を説明する.常稼働状態で評価する。「受け取られた」まま'の状態でのtestが意図するのは,ユーザがprosesprosespanelmeーcaーの製作,清浄化,および包装の技術を評価できるようにすることである。実際の稼働状態でのtestが意図するのは,ユーザがメーカーの部品選択およびパネル設計の品質を評価できるようにすることである。両方のtest方法に記述された規定流量は,典型的なプロセスパネルの比較的大きな流量の条件を表現している.
참조된 SEMI 표준 없음.
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F02800 - SEMI F28 - 프로세스파넬로부터 파티크루 발열을 측정하는 테스트 방법
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