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SEMI F21 - 清浄な環境における空気を媒體とする分子汚染レベルの分類 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項： このSEMIstandadeは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本GAIDは, Global Facilities Committeeで技術的に承認されたもので，North American Facilities Committeeが直接責任を負うものである.現版は， 2002年8月29日 North American Regional Standards Committeeに承認されている2002年9月にまずwww.semi.orgで入手可能，2002年11月発行に至る。初版は1995年発行。
本standadeの目的は，마이크로에레크트로닉스の清浄な環境を，分子（粒子ではない）汚染レベルに関して分類する ことである。この標準分類は，空気を媒體とする特定の分子汚染のグループについて，許容可能汚染レベルの一貫した コミュニケーション方法を提供する.本standaredに添付される関連情報1を参照のこと.
この標準分類は，半導体の清浄な環境（proses装置の環境を含む）と，清浄度の制御維持装置の性能に対する仕様において利用される.
本standadeードはその使用に関連した全ての安全問題を取り扱うことを意図していない.び健康上の作業方法を確立し，matata使用前に規制上の制限への適用性を判断するものである.
참조된 SEMI 표준
없음.
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