SEMI E143 - 모든 위상 각도에서 2.0의 VSWR을 사용하여 50Ω 부하로 전력 및 변동을 측정하고 부하로 전력 변동 및 스펙트럼을 측정하는 테스트 방법 -

Abstract

이 표준은 Metrics Global Technical Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 에디션은 2017년 12월 13일에 글로벌 감사 및 검토 소위원회의 출판 승인을 받았습니다. 2018년 5월에 www.semiviews.org 및 www.semi.org에서 볼 수 있습니다. 원래 2006년 3월에 출판되었습니다. 이전에 게시된 2012년 5월.

이 테스트 방법의 목적은 반도체 처리 장비용 RF 전력 전달 시스템에서 실제 성능을 시뮬레이션하기 위해 일치 및 불일치 부하로 구동되는 무선 주파수(RF) 발생기의 출력 전력 및 스펙트럼 콘텐츠를 측정하기 위한 정확한 방법을 제공하는 것입니다. SEMI E113을 지원합니다.

이 테스트 방법은 RF 발생기의 출력 전력 및 스펙트럼 변화를 정확하게 결정하는 데 필요한 테스트 절차 및 테스트 장비를 지정합니다. 이 테스트 방법은 스펙트럼 분석기, 파워 미터 및 신호 샘플링 장치를 사용하며 모두 제조업체에서 권장하는 적절한 방법으로 이전에 보정되었습니다. 이 테스트 방법은 다음 SEMI E113 사양을 지원하기 위해 RF 발생기의 세 가지 주요 성능 특성을 검증하는 데 사용됩니다.

이 테스트 방법은 RF 발생기가 정합( 50Ω ) 으로 작동할 때 요청된 전력 수준의 ±1% 미만(시간이 지남에 따라 그리고 정상 상태 웨이퍼 처리 조건 동안) 변동으로 일관된 전력 공급을 제공하는지 확인하는 데 사용됩니다. 짐.

이 테스트 방법은 반사가 있는 부하 임피던스로 작동할 때 RF 발생기가 요청된 전력 수준의 ±1.5% 미만(시간 경과 및 정상 상태 웨이퍼 처리 조건 동안)의 변동으로 일관된 전력 공급을 제공하는지 확인하는 데 사용됩니다. 최대 정격 출력 전력의 10%에서 100%까지 모든 위상 각도(≥2.0의 전압 정재파 비율[VSWR])에서 ≥0.33의 계수.

이 테스트 방법은 단일 또는 고정 주파수 출력을 제공하는 RF 발생기가 0.33 이상의 반사 계수를 가진 부하 임피던스로 작동할 때 -40dB 이하의 출력 전력 고조파 또는 스퓨리어스 스펙트럼 콘텐츠를 제공해야 하는지 확인하는 데 사용됩니다. 최대 정격 출력 전력의 10%에서 100%까지의 모든 위상 각도(≥2.0의 VSWR).

이 테스트 방법은 또한 다음 두 가지 조건이 충족되고 이해되는 경우 가변 또는 다중 주파수 출력 RF 생성기에 대한 출력 전력 고조파 또는 스퓨리어스 스펙트럼 콘텐츠를 검증하는 데 사용할 수 있습니다.

• 유효한 결과를 얻으려면 이 테스트를 위해 가변 주파수 RF 발생기를 단일 고정 주파수 모드에 두어야 합니다.

• 가변 주파수 RF 생성기의 출력 전력 고조파 또는 스퓨리어스 스펙트럼 콘텐츠는 일반적으로 고정 주파수 RF 생성기의 -40dB 요구 사항보다 높습니다.

이 테스트 방법의 주요 초점은 다음 장비 유형을 포함하되 이에 국한되지 않는 반도체 처리 장비입니다.

• 건식 식각 장비

• 필름 증착 장비(화학기상증착[CVD] 및 물리기상증착[PVD])

　

참조된 SEMI 표준

SEMI E113 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템 사양
SEMI E114 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템에 사용되는 RF 케이블 어셈블리에 대한 테스트 방법

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