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SEMI E136 - 半導体処理装置の高周波(RF) 電力供給Systemで用されるRF電源の出力を決定するためのtest方法 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責 ： ： 事項 반 スタンダード スタンダード は は は は 投票 により 作成 作成 さ さ さ れ た た 英語 版 版 が 正式 な もの であり であり であり 日本 語 語 版 版 は は 日本 日本 の 利用 者 各位 各位 の 便宜 の に 作成 し た もの もの です です。 が が が 一 一 英語 と 日本 が が が が が が が が が 語 日本 日本 日本 日本 日本 し し し し し し し し し し し し し し し し た もの もの です。 万 が が ∎ある場合には英語版記載内容が優先されます｡반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本版は2011年12月24日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された2012年5月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2004年11月発行。
注意:本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された。
本test方法の目的は，半導体処理装置の高周波(RF)電力供給SystemでUseされるRF電源の出力を測定する正確な方法を提供し，SEMI E113をsaポートする ことである。
本test方法では， RF電源から出力される真の出力（つmari加熱力）を決定するために必要なtest手順および装置を指定する。このtest方法では，参standadeーdoとして，正確なDC置換手法を使用して予め校正された熱量電力計を使用する.
本test方法の主な対象は，次のtypeの半導体処理装置であるが，それらには限定されない。 •드라이엣칭装置，およ
び
•薄膜堆積装置(CVD 와 PVD)
참조된 SEMI 표준
SEMI E113 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템 사양
SEMI E114 — 반도체 공정 장비 RF 전력 공급 시스템에 사용되는 RF 케이블 어셈블리에 대한 테스트 방법
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