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SEMI E113 - 半導体処理装置の高周波(RF) 전력 공급 시스템용 제품 -
Abstract
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免責 : : 事項 반 スタンダード スタンダード は は は は 投票 により 作成 作成 さ さ さ れ た た 英語 版 版 が 正式 な もの であり であり であり 日本 語 語 版 版 は は 日本 日本 の 利用 者 各位 各位 の 便宜 の に 作成 し た もの もの です です。 が が が 一 一 英語 と 日本 が が が が が が が が が 語 日本 日本 日本 日本 日本 し し し し し し し し し し し し し し し し た もの もの です。 万 が が ∎ある場合には英語版記載内容が優先されます。
반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本版は2011年12月24日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された2012年5月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる.初版は2001年11月発行。前版は2006年3月発行。
注意:本文書は,編集上の修正を伴い,再承認された.
processes・prazmaが,薄膜のetchingmatataは堆積を通して半導体産業に使われる。大多数のproses・체바하,프라즈마を作り,維持するために高周波(RF)電力を使う.信頼性, そしてprazman의 반사성은ウエーハ処理結果に直接衝撃を与えるために,RF電力供給Systemは半導体製造技術の重要な要素である。全RF (高周波電)力発生シテームの正確で再現可能な性能,影響されるRFを含む,프라즈마のparametera, 一般に認められた許容限度範囲内でなければならない.
RF의신뢰성및반대성테스트와RF 전력증강시스템의성격화테스트및첸바의성격화테스트를위한성격화테스트.서브시스템(すなわち)発振器,케이불아센브리,整合回路網,チャック チャック コイル) が 特徴 特徴 付け られる だけでなく だけでなく だけでなく, 統合 化 システム システム の の 性能 も また また また また 意図 さ れ た 動作 動作 にわたり にわたり 特徴 付け 付け られ なければなら ない。。。
このスタンダードの意図は,SystemToSabSystemの性能を改善に至る,半導体処理装置用のRF電力供給仕様を提供する ことである。それは,Systemmataはサブ시스템構成要素を供給されなければならない必須の文書と同様に性能基準を概説する.この文書のゴールは,安定性,反復性と重要な電気的なparameter,例えば供給電力電,流および電圧,시스템의 인피단스が操作空間内で決定で きるような,十分に特徴づけられたRF電力供給Systemを生産するために必要な仕様を提供することである.
この この この は 文書 産業 で で 使わ れ れ た た rf 装置 用 の 最 最 小限 の の 性能 基準 を 規定 する。 特定 の テスト 方法 方法 または 性能 確認 の 手続き 手続き に もの ではない ではない ではない。。。。。
この仕様は主に半導体処理装置に的を絞り,下記の装置型を含むが,それに限定されるものではない。 •드라이엣치装置•薄膜堆積装置(CVD와
PVD
)
この仕様は,電力がprazmaを作り,維持するために直接使われる半導体処理装置のRF (高周波)電力供給systemに適用される。
참조된 SEMI 표준
SEMI E10 — 장비 신뢰성, 가용성 및 유지보수성(RAM)의 정의 및 측정을 위한 사양
SEMI E78 — 정전기 호환성 – 장비의 ESD(정전기 방전) 및 ESA(정전기 끌림) 평가 및 제어 가이드
SEMI E114 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템에 사용되는 RF 케이블 어셈블리에 대한 테스트 방법
SEMI E115 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템에 사용되는 정합 네트워크의 부하 임피던스 및 효율성을 결정하기 위한 테스트 방법
SEMI E135 — 반도체 공정 장비에 사용되는 RF 전원 전달 시스템의 과도 응답을 결정하기 위한 RF 발생기 테스트 방법
SEMI E136 — 반도체 처리 장비 RF 전력 공급 시스템에 사용되는 RF 발생기의 출력 전력 결정을 위한 테스트 방법
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