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SEMI E46 - ion移動度分光計(IMS)を用 した minienbairomentからの有機汚染分析の試験方法 -
Abstract
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免責事項:このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。
반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本standaredは, Metrics Global Technical Committeeで技術的に承認されている。현재 는 200 7年1月18日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2007年2月にwww.semi. org 로 .
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
本試験方法の目的は,ion移動度分光計(IMS)提供することである.
本試験方法は, SEMI E108の代替方法として考えられている。SEMI E108と本文書との主な相違点は,SEMI E108が測定技術としてgaskromatgrafi/質量分析法と熱脱離との組み合わせに基づく試験方法を規定しているのに対し,本standardは,ion移動度分析法 (IMS)に基づいていることである。SEMI E108による試験方法と本文書による法試験方の結果は,単位が異なる。
미니엔바이로먼트を通過したり,미니엔바이로먼트中に保管されるシリコンウェーハは,構造材料に起因する有機汚染によって影響を受ける。この汚染についての知識は,半導体製造においてminienbairomentの使用を決定する上での助けとなる.
IMS는 表面의 有機機汚染を測定する, 容易で,広汎に使用可能で,ぶれが少なくしかも感度の高い方法であることから,この汚染の測定法として選ばれている。
さらに, IMSは,prosesからの汚染の影響のcheckic,化学物質の캘리오바,半導体技術に用いる未来のphorimaー素材の特性づけのための可能性を付与する.
참조된 SEMI 표준
SEMI E19 — SMIF(표준 기계 인터페이스)
SEMI E108 — 가스 크로마토그래피/질량 분광법을 사용하여 미니 환경에서 가스 방출 유기 오염 평가를 위한 테스트 방법
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