SEMI C3 - 가스 사양 -

Abstract

이 표준은 Gases Global Technical Committee에서 기술적으로 승인되었습니다. 이 에디션은 2017년 2월 2일에 글로벌 감사 및 검토 소위원회의 출판 승인을 받았습니다. 2017년 3월 www.semiviews.org 및 www.semi.org에서 볼 수 있습니다. 원래 1981년에 출판되었습니다. 이전에 2013년 4월에 게시되었습니다.

반도체 제조에서 가스의 불순물 함량의 중요성을 인식한 공급업체는 특히 미량 불순물에 대한 분석 특성이 개선된 제품을 출시함으로써 대응했습니다.

SEMI 가스 위원회는 1979년 봄에 활동을 시작했습니다. 이 간행물을 통해 위원회는 색인에 나열된 가스에 대한 정의, 일반 절차, 사양 및 분석 절차를 수립합니다.

모든 요구 사항을 충족하는 제품은 'SEMI 사양 충족'으로 설명될 수 있습니다.

제공된 것과 다른 분석 절차가 공급자 또는 사용자에 의해 대체되는 경우 동등성을 확인하기 위한 입증 책임은 해당 공급자 또는 사용자에게 있습니다. 특정 분석 방법을 결정할 때 다음 기준 목록이 고려되었음을 유의해야 합니다.

•신뢰할 수 있음

•사용의 용이성

•유지

•정도

•정확성

•감광도

•다재

• 장비의 가용성

이 표준에서 제공하는 사양은 반도체 및 고급 전자 장치 및 회로의 제조 및 처리에 사용되는 가스에 사용하기 위한 것입니다. 사양 및 관련 테스트 절차는 공급업체 및 사용자의 경험을 바탕으로 한 지침입니다. 사양의 기능은 원하는 품질 표준을 설정하는 것입니다.

가능한 경우 함량 규격은 몰당 몰(몰/몰) 단위의 수치 한계로 표시되어야 합니다. 주요 성분의 경우 값(분석법 또는 순도)은 최소 허용 한계로 표시되어야 합니다. 불순물의 경우, 그 값은 최대 허용 한계로 표현되어야 합니다. 사양을 준수하는 가스는 일반적으로 최소 허용 한계보다 더 많은 주요 구성 요소를 포함하거나 SEMI C3 최대 허용 한계보다 적은 불순물(또는 여러 불순물)을 포함합니다. 어떤 경우에도 가스가 사양에 정의된 것보다 더 높은 품질로 간주되어서는 안 됩니다.

존재할 수 있는 모든 불순물이나 오염 물질을 고려하는 것은 실용적이지 않습니다. 특정 응용 프로그램의 경우 더 엄격하거나 추가 사양 및 절차가 필요할 수 있습니다. 이러한 사양 및 관련 절차의 의도는 한편으로는 가스가 반도체 장치의 제조 및 처리에 사용될 수 있는 일반적인 용도에 적합하고 다른 한편으로는 일관성을 유지하도록 보장하는 것입니다. 해당 가스에 대한 최신 제조 공정을 사용합니다.

위원회는 사양 및 절차를 개선하고 혼합 가스와 같은 기타 가스 및 시스템을 추가하는 작업을 계속하고 있습니다. 위원회는 의견, 제안 및 추천을 환영합니다.

참조된 SEMI 표준

없음.

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