SEMI PV81 - 低圧横型拡散炉仕様ガイド -

Abstract

この規格は、太陽光発電世界技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2017 年 12 月 13 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって出版が承認されました。2018 年 3 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。

大気圧水平拡散炉と比較して、低圧水平拡散技術には、より大量生産、より少ないスペース要件、より少ないエネルギー消費、より優れたシート抵抗の均一性という利点がありますが、これらの利点はすべて、装置のいくつかの重要なパラメータに基づいています。このガイドは、低圧水平拡散を低コストで高性能化するために、拡散炉装置メーカーおよびお客様の参考として提供するものです。

このガイドで説明する低圧横型拡散炉は、主にシリコン太陽電池の拡散生産ラインにおいて低圧条件下でp - n接合を構築するために使用されます。

このガイドでは、低圧をもたらす拡散プロセスに影響を与えるいくつかの重要なパラメーターを分析します。生産ラインでの一連の実験やテストによって検証されたこれらのパラメータは、横型拡散炉装置メーカーにとって貴重な参考資料となります。

SEMI E6 — 半導体装置設置ガイド ドキュメント
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SEMI E69 — サーマルマスフローコントローラの再現性とゼロドリフトを判定するための試験方法
SEMI F74 — ガス供給システムで使用するメタルシール設計の性能と評価の試験方法
SEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語
SEMI MS10 — MEMS 包装材料を通る液体の浸透を測定する試験方法
SEMI S6 — 半導体製造装置の排気換気に関する EHS ガイドライン
SEMI T7 — 二次元マトリックスコードシンボルを使用した両面研磨ウェーハの裏面マーキングの仕様
SEMI T8 — 2次元マトリックスコードシンボルによるガラスフラットパネルディスプレイ基板のマーキング仕様
SEMI T9 — 二次元データマトリックスコードシンボルによる金属リードフレームストリップのマーキング仕様
SEMI T14 — 300 mm シリコンウェーハ上のマイクロ ID の仕様

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