SEMI PV31 - PV 用途の透明導電性酸化物 (TCO) フィルムのスペクトル分解反射および透過ヘイズの試験方法 -

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Volume(s): Photovoltaic
Language: English



Type: Single Standards Download (.pdf)

リビジョン: SEMI PV31-0212 (再承認 0317) - 現在

リビジョン

Abstract

この規格は、太陽光発電 - 材料グローバル技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2016 年 12 月 8 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2017 年 3 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 2012 年 2 月に出版されました。

太陽光発電産業で使用される透明導電性酸化物 (TCO) フィルムは、光の吸収を最適化し、セル効率を最大化するためにテクスチャー加工が施されています。多くの場合、このようなフィルムの特性を評価するためにヘイズ測定が使用されます。表面上の低周波粗さと高周波粗さの相対的な量が両方とも重要になる可能性があるため、必要なテクスチャは通常、単一のヘイズ結果では明確に定義されません。したがって、ヘイズは光源の波長のスペクトルに対して決定されることがよくあります。ヘイズ値は多くの場合、材料の有用な特性と相関関係があります。

太陽光発電 (PV) 分野では、ヘイズは、サンプルの表面からの反射散乱または透過散乱の合計を統合したものと見なされます。この測定の基本は SEMI MF1048 で説明されています。

この試験方法は、SEMI MF1048 および SEMI PV15 を、太陽光発電産業で使用される TCO フィルムの光源波長の関数としての反射および透過ヘイズの測定に拡張します。反射ヘイズは、アモルファスまたは他のタイプのシリコン上に堆積された TCO フィルムで得られます。透過ヘイズは、ガラスなどの透明な材料上に蒸着された TCO フィルムでも同様の方法で取得できます。

ヘイズは、ソースビームの入射波長の関数として決定されます。ヘイズは、ソースビームとフィルム表面法線との間の入射角の関数としても決定されます。必要に応じて、サンプルフィルム上の異なる位置で測定することもできます。

参照されるSEMI規格

SEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語
SEMI MF1048 — 反射全積分散乱を測定するための試験方法
SEMI PV15 — PV 材料の表面粗さと質感を監視するための角度分解光散乱測定の条件を定義するためのガイド

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