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SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、global Microlithography Committee で技術的に承認されている。現版は2006年11月21日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 ，そして2007年3 月にCD-ROM で入手可能となりました。
本書の目的は、微細ラインパターン形成、特にＩＣ製造の材料およびプロセスを評価するために以下にあげる二種類のライン凹凸指標を計算する際の、標準的な手順を決定することである。の指標は実際のラインエッジの位置が理想的な（最もよくフィットする）ラインエッジからどの程度ずれるかに関係し、ラインエッジラフネスと呼ばれるものである。幅の変動を定義し、ライン幅ラフネスと呼ばれる。
参照されるSEMI規格
SEMI P19 — 集積回路製造用の計測パターンセルの仕様
SEMI P35 — マイクロリソグラフィー計測の用語
SEMI P36 — 限界寸法測定走査型電子顕微鏡の倍率基準のガイドライン
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