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SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・標準（OASIS®）の仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、global Micropatterning Committee で技術的に承認されている。現版は2009年5月13日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 ，そして2009年7月にCD- ROMで入手可能となりました。 初版は2005 年11月に発行、前版は2008 年11 月に発行されました。
本書は、OASISをベースとしたマスク装置の共通マスクデータフォーマットである「 OASIS.MASK 」の仕様を定義する。
参照されるSEMI規格SEMI P39 — OASIS® – Open Artwork System InterchangeStandard
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