SEMI P42 - ウェーハ露光システムへの自動レシピ配信のためのレチクルデータの仕様 -

Abstract

注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本仕様は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は、 200年9月9日Japanese Regional Standard Committeeにて承認されている。年2月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、2004年3月発行に至る。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

本仕様では，ウェーハ露光ツール用にレシピを準備するためのレチクルデータのフレーム情報から共通データインタフェースを定義する。再使用できるように，設計とウェーハ製造中にデータを進めることができるようになる。本標準は，ウェーハ露光ツールの自動レシピ生成を支援することを意図している。

本スタンダードでは，ウェーハ露光装置の自動作成におけるフレーム情報について詳しく説明する。

本基準では，ウェーハ露光装置のレチクルおよびレシピ作成時に必要な共通設計情報の項目を定義設計します。

本標準では，サプライヤや露光装置の型式に依存せずに共通に使用可能なデータインタフェースについて定義する。

なし。

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