SEMI P41 - XMLによる，検査装置，修正装置およびレビュー装置間で取扱うマスク欠陥データ仕様 -

Abstract

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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本仕様は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は、 200年9月9日Japanese Regional Standard Committeeにて承認されている。年2月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、2004年3月発行に至る。

E本スタンダードは2004年9月、編集上の誤りを修正するため改訂された。表2および3で変更がなされている。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

このデータ構造仕様は，マスクファブ内のマスク欠陥検査装置，欠陥修正装置，レビュー装置間で脅威欠陥情報交換を，標準的ＸＭＬフォーマットを使用して行うものである。

装置間で欠陥情報を相互利用する。

欠陥検査装置、欠陥修正装置、レビュー装置以外の装置、システムでの選択利用。

この標準化されたデータ構造を拡張装置供給ヤは、特定のソフトウェアおよびハードウェアに依存する事なく、必要な情報の送信受信ができる。

本基準は、半導体製造用フォトマスクの欠陥関連情報に適応できるものとする。

このデータ構造は、送信されるＸＭＬファイルの障害構造とタグ名及びコンテンツを定義する。この基準によって、特定のデータベースやプログラミング言語が指定されることは無い。

なし。

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