SEMI P41 - 欠陥検査ツール、修復ツール、レビューツール間でのXMLによるマスク欠陥データ処理の仕様 -

Member Price: ¥113
Non-Member Price: ¥31,900

Volume(s): Microlithography
Language: English



Type: Single Standards Download (.pdf)

リビジョン: SEMI P41-0304E - 非アクティブ

リビジョン

Abstract

この仕様は世界マイクロパターニング委員会によって技術的に承認されており、日本のマイクロパターニング委員会が直接責任を負っています。最新版は、2004 年 1 月 9 日に日本の地域標準委員会によって承認されました。最初は 2004 年 2 月に www.semi.org で入手可能でした。 2004 年 3 月に出版される予定です。

E この規格は、編集上の誤りを修正するために 2004 年 9 月に修正されました。表 2 と 3 に変更が加えられました。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

このデータ構造仕様では、マスク生産現場の欠陥検査ツール、修復ツール、レビュー ツール間の欠陥情報通信に標準 XML 形式を使用しています。

ツール間での不具合情報の相互利用。

欠陥検査、修復、レビュー ツール以外のツールおよびシステムによるオプションの使用。

この標準化されたデータ構造を利用する機器サプライヤーは、特定のソフトウェアや特定のハードウェアに依存することなく、必要な情報を送受信できます。

この規格は、半導体製造用フォトマスクの欠陥関連情報に適用できます。

このデータ構造は、送信される XML ファイルのデータ階層、タグ名、および内容を定義します。この標準では、特定のデータベースまたは特定のプログラミング言語は指定されていません。

参照されるSEMI規格

なし。

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