SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） -

Abstract

本基準は、global Micropatterning Committee で技術的に承認されている。現版は2008年1月18日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 ，そして2008年3月にCD-ROM で入手可能となりました。 初版は2004年3月発行、前版は2005 年11 月に発行されました。

本仕様の目的は、長時間構造を保持する回路のマスクのレイアウト情報のための相互交換およびカプセル化のフォーマットを定義することである。

背景— 2001 年の秋、SEMI のデータ パス タスク フォースは古いからある GDSII ストリームフォーマットをかわるフォーマットを定義するためのワーキンググループを作りました。 この古いフォーマットは、16ビットと32ビットの内部整数フィールドに制限され、セルの幾何学図形の表現が慎重であること、および構造的なオーバーヘッドが大きいことにより，最先端の設計に使用することが困難になってきております，ファイルサイズも場合によっては数十ギガバイトなどとみられるサイズになりました。与えた。

· GDSIIストリームよりも、ファイルサイズを最小1 桁縮小するように改善すること。

· 16ビットと32ビットの整数幅のすべての制限を取り除き、完全な64ビットを可能にする新しいフォーマットを作成すること。

・フラットな幾何学図形を含むセルを効率的に表現すること。

・設計と製造の間でレイアウト関連の情報の交換を簡単にするために、より豊富な情報パレットを提供すること。

SEMI Data Path Task Forceの形成に継続数ヶ月間，International Sematechは，マスクEDAの課題に焦点を当てた連続の会議を主催した。タスクフォースの多くの参加者は，これらのSematech の会議にも関わり，これらのセッションからのはるかに有用な情報により，この仕様の定義を構築させました。

なし。

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