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SEMI P34 - 230 mm角フォトマスク基板の仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
English
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
この規格は、世界的なマイクロパターニング委員会によって技術的に承認されました。この版は、2007 年 4 月 25 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって出版が承認されました。2007 年 6 月に www.semi.org で入手可能になりました。初版は 2000 年 2 月に出版されました。
注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。
公称エッジ長 230 mm の公称正方形フォトマスク基板の標準要件を定義します。
この仕様には、230 mm 角のフォトマスクの基板に関する情報が含まれています。この情報には、物理的寸法、材料特性、試験および測定基準が含まれますが、これらに限定されません。
参照されるSEMI規格なし。
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