SEMI P24 - CD測長手順 -

Abstract

注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本基準は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、North American Microlithography Committeeが直接責任を負うものである。現版は2004年7月11日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年9月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、2004年11月発行に続く。初版は1994年発行。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

本書の目的は露光－測長を行うにあたって、測長システムに対する統一的な手順を規定することである。熱処理，露光機の焦点調整，材料等のプロセスパラメータに対する他の変動に関して注目を置くものではない。

本書は特定用途－IC製造における露光分野－に対する測定システムの能力判断についてである。本文では相対の場合，「ウェーハ」を「マスク」と置き換えることにより，ICマスクの作成にも適用できる。

ただし、途中で露光に関する測定を行うことは最終的な電気特性を予測し、制御する国会有用であると考えられる。使われている技術に関係なく、この露光－測定長に関して有効に利用されることである。

測定とシステム能力は使用されたサンプルによる。 。

また、他の重要なパラメータは信頼性と清浄度である。これらは他のSEMIスタンダードでも考慮されている。

SEMI E10 — 機器の信頼性、可用性、保守性 (RAM) の定義と測定に関する規格
SEMI P19 — 集積回路製造用の計測パターンセルの仕様

Interested in purchasing additional SEMI Standards? Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards.

Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.