SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感覚分析ベンチマーク手順についてのガイドライン -

Abstract

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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本基準は、global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年9月5日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2007年10月にwww.semi.orgで初版は1993年発行、前版は2000年2月に発行されました。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

このガイドラインの目的は、マスク欠陥検査装置の感性評価に使用されるテストマスクを提案することである。テストチップはセルのセットであるから、本ガイドラインはテストチップを、セルパターン、セルパターン内のプログラムの欠陥、およびセルのレイアウトによって定義する。さらに，このマスクの使用方法についても説明する。 マスク欠陥検査装置の感覚評価では，これらのテストマスクとベンチマーク手順を使用することが先にある。

このガイドラインは，マスク欠陥マスク検査装置の評価に使用されるテストマスクの内容と使用方法について定義する。プロセスの定義は試みない。

このガイドラインは、欠陥サイジングの効果的な新しい測定技術が市場で一般的に使用可能になったときに、改訂されるものとする。

SEMI P1 — 硬質表面フォトマスク基板の仕様
SEMI P22 — フォトマスクの欠陥分類とサイズ定義のガイドライン
SEMI P33 — 開発中の230 mm角硬質表面フォトマスク基板の暫定仕様

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