SEMI P22 - フォトマスク欠陥の分類とサイズ定義についてのガイドライン -

Member Price: ¥135
Non-Member Price: ¥38,100

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese



Type: Single Standards Download (.pdf)

リビジョン: SEMI P22-0307 - 非アクティブ

リビジョン

Abstract


注意:この翻訳は参考コピーのみです。もしも 英語版と翻訳版の間にはいかなる違いも存在するはずです。 その他の言語の場合は、英語版が正式な正式版です。

免責事項: このSEMI スタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMI スタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しな」

注意: Current 」のステータスを維持するための条件が近づいて満たされていないため、この基準または安全ガイドラインは「 Inactive 」ステータスとなっています。「 Inactive 」の基準または安全ガイドラインSEMI から入手可能ですであり、引き続き有効です。

このガイドラインは,フォトマスク上の欠陥,およびプログラム欠陥分類法を示唆し,追加サイズの定義を行っています。本書内では,「フォトマスク」という言葉のみが使用されている レチクル という言葉とも交換が可能です。


フォトマスク上の欠陥の分類・呼称・サイズを表現する場合には,本ガイドラインに準ずることが予想される。

参照SEMI規格(別途購入)

なし。

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