SEMI P6 - フォトマスク用レジストレーションマーク -

Abstract

注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本基準は、global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年4月25日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2007年6月にwww.semi.orgで初版は1988年に発行された。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

この仕様は表示目的のために，フォトマスク上にフォト－リソグラフィカルに設定される規定マークについて定めるものである。その目的とは、同じ連続のフォトマスク内において、一つのイメージフォトマスクと他のイメージフォトマスクとのレジストレーション精度を決定するものである。

この標準は，すべてのフォトマスクに使用されるレジストレーションマークの形状，サイズの範囲，および一般的な配置を定義するものである。ある）。

なし。

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