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SEMI P1 - 硬質表面フォトマスク基板の仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
English
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。
注意: この文書は 2008 年に完全に書き直されました。
この仕様は、硬質表面フォトマスク用のガラス基板の一般的な要件をカバーしています。
この文書では、長さ 7 インチまでの正方形のフォトマスクについて説明します。
この文書には、次の材料の仕様も記載されています。
- 高熱膨張 (HTE)、
- 中熱膨張 (MTE)、
- 低熱膨張 (LTE)、
- 合成溶融シリカ (SFS)、
- 193 nm 波長用の耐久性のある合成石英ガラス (DSFS) ガラス。
参照されるSEMI規格
なし。
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